華束熱處理平臺(tái)包含高溫真空爐、中頻爐、超高真空排氣臺(tái)、高溫馬弗爐、烘箱。在清洗工藝、精密加工工藝及各種精密焊接工藝的配合下,可以完成包括各類零件的熱處理以及真空器件、真空部件的開發(fā)與生產(chǎn),開展熱沖擊可靠性實(shí)驗(yàn)及工藝。華束熱處理平臺(tái)目前主要用于高真空電子器件、各種粒子源以及真空設(shè)備部件、大科學(xué)裝置關(guān)鍵真空部件的研發(fā)生產(chǎn)。
華束精密加工平臺(tái)包含精密車床和加工中心,以及配套的鋸床、鉆床、車銑一體機(jī)床。在清洗工藝、熱處理工藝及各種精密焊接工藝的配合下,可以完成包括加速管、高電壓金屬電極在內(nèi)的各類精密零件加工。華束精密加工平臺(tái)可為無氧銅、鋁及合金提供精密加工和技術(shù)支持,滿足各方面客戶的需求。華束精密加工平臺(tái)主要設(shè)備性能參數(shù)如圖所示:
華束粒子輻照平臺(tái)的粒子源包括:電子束、X射線、離子束(以氫/氘為主)、中子束。常規(guī)電子束能量/X射線電壓為50kV/80-140kV/300kV/6MV/10MV/16MV。華束粒子輻照平臺(tái)的輻照屏蔽環(huán)境包括:小型鉛房(適用電壓120kV,功率100W)、中型鉛房(適用電子束最高電壓180-450kV,功率60kW)、電子加速器機(jī)房(適用電壓16MV,脈沖功率1.6MW)和質(zhì)子/中子加速器機(jī)房(適用電壓2.5MV,連續(xù)功率75kW)。華束粒子輻照平臺(tái),目前主要用于開展:有機(jī)材料輻射改性、生物輻照效應(yīng)研究、電子產(chǎn)品抗核加固、輻照類設(shè)備的開發(fā)等。